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最全面的罐體拋光機(jī)設(shè)計原理
A,設(shè)計核心要求罐體拋光機(jī)必須設(shè)法得到最大的拋光速率，以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層,。
B,同時也要使拋光損傷層不會影響最終觀察到的組織,，即不會造成假組織。
C,前者要求使用較粗的磨料,，以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深,；后者要求使用最細(xì)的材料,，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低,。
綜上所述罐體拋光機(jī)設(shè)計時可分為兩個階段進(jìn)行：
第一：粗拋目的是去除磨光損傷層,，這一階段應(yīng)具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,，不過也應(yīng)當(dāng)盡可能?。?/span>
第二：其次是精拋(或稱終拋),，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,，使拋光損傷減到最小。
設(shè)計注意事項
A,、,罐體拋光機(jī)拋光時,，試樣磨面與拋光盤應(yīng)絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕,。
B,、同時還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液,，使拋光織物保持一定濕度,。
C、濕度太大會減弱拋光的磨痕作用,，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生曳尾”現(xiàn)象,；濕度太小時,，由于摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作用減小,，磨面失去光澤,，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會拋傷表面,。
D,、為了達(dá)到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低,，最好不要超過600r/min,；拋光時間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時間長些，因為還要去掉變形層,。粗拋后磨面光滑,，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕,，有待精拋消除,。
E、精拋時轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提高,，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜,。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕,，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕,。
F、罐體拋光機(jī)拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu),。
罐體拋光機(jī) 鏡面罐體拋光機(jī) 拋光材料 光飾機(jī) 拋光磨料
